熱電賽默飛ARL4460全譜直讀光譜儀

美國熱電賽默飛ARL4460全譜直讀光譜儀金屬分析儀

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一、性能說明

ARL 4460金屬分析儀集當今Z新分析技術(shù)于一體，它采用了其專li技術(shù)電流控制光源(CCS)和時間解析光譜(TRS)技術(shù)，并與具有特色的工廠校正曲線和自診斷功能相結(jié)合，將分析技術(shù)帶入一嶄新天地。不但可以進行常規(guī)分析，還可大限度地滿足金屬光變分析工作者的各種復雜要求。耐久可靠的結(jié)構(gòu)設(shè)計和制造工藝，確保儀器在種惡劣環(huán)境下都具有優(yōu)越的分析性能穩(wěn)定，可靠的硬件

1.   很好的工廠校正曲線

2.   優(yōu)勢的光譜制造技術(shù)

3.   分析軟件

4.   分析準確度更高，分析速度更快

5.   分析痕量元素和氣體元素具有新的打破

6.   分析范圍廣泛：適于分析鋼鐵，鋁，銅，鎂，錫，鉛，鋅，貨品等金屬材料

7.   對操作人員無特殊要求

二、技術(shù)規(guī)格

1、光普室設(shè)計:一米焦距，帕邢龍格裝置，真空型，恒溫控制(38?0.10C),特殊鑄鐵材料制造,Z多設(shè)置60條通道

2、試樣臺:充氬樣品臺;內(nèi)置自循環(huán)水冷系統(tǒng)

3、光柵:根據(jù)分析任務(wù),儀器配置以下三種光柵中的一種1080gr/mm,1667gr/mm,2160gr/mm

4、分辨率:視光柵,出射狹縫和光譜等到級而定

5、狹縫寬度:入射狹縫:20um;出射狹縫:25 , 37.5 , 50 , 75um

6、光電倍增管:直經(jīng)Φ28mm,10級側(cè)窗管,光學玻璃或人造石英窗

7、光源:電流控制光源(CCS)

8、光譜儀控制:利用CMOS技術(shù)的APL MMB386微處理器,帶狀態(tài)控制卡;每條通道均配置數(shù)模(A/D)轉(zhuǎn)換器和衰減器分為41檔;測量電子部分的動態(tài)范圍與測量時間成正比,一般為2?106計數(shù)/秒12位可編程衰減器時間分辨光譜(TRS)

9、環(huán)境要求:室溫:16～300C,Z大允許溫差為50C/小時;相對濕度20～80%

10、電力要求:電壓230V( 10%-15%)，保護性接地的單相電源(電壓波動超過?10%時需用5KV（（穩(wěn)壓器)。電流12A，頻率50或60Hz；功率2.5KVA;接地電阻<1Ω歐洲標準:89/392/EEC低壓材料,89/366/EEC電磁氬氣要求:純度99.995%,Z大含量5ppm(分析高Si樣品時,Z大含量為2ppm)流量3.5升/分(分析時),0.35升/分(待機時)

11、幾何尺寸:長1385?寬910?高1220mm長1690

12、系統(tǒng)重理:約540公斤

三、儀器技術(shù)優(yōu)勢介紹

電流控制光源(CCS)

1、CCS為火花發(fā)射光譜分析的樣品采集和激發(fā)過程提供了準確穩(wěn)定，連續(xù)的控制；Thermo通過對不同類型的金屬材料研究，開發(fā)出各種適合不同合金類型的合適激發(fā)條件，從而獲得了較好的分析靈敏度，精度，和很短的分析時間。

2、在火花放電過程中，預燃電流波形為樣品表面的微熔過程提供較大的“電流密度”，從而能在較短的時間內(nèi)達到均勻狀態(tài)。積分電流波形：(1)為樣品采集提供重現(xiàn)性較高的峰電流(2)為激發(fā)合金元素和痕量元素提供合適的平臺電流。

時間分析光譜技術(shù)(TRS)

1、電流波形和每次放電“時間窗口”(即光被積分的時間段)決定了第個元素的分析靈敏度。在電流波形中，選擇適當?shù)腡RS窗口位置，可以：(1)避公開電初始階段產(chǎn)生背景的高峰電流，(2)確定具有合適期售背比的平臺電流階段為種分時間段。從而獲得合適期的靈敏度和精度。別外，由于TRS的獨特數(shù)據(jù)采集功能，對某些元素而言，當分析波長和干擾波長之間存在一定的泊發(fā)電勢差時可以明顯地改進痕量元素的校正曲線擬合線的準確性。

CARL工廠校正曲線

1、依靠多年種累的全部標樣庫，每條曲線均由幾十塊標樣建立，比現(xiàn)場建立的分析曲線有更多的數(shù)據(jù)點。

2、獨有的校正軟件，不僅可以修正光譜干擾，還可以扣除背景干擾，提高了分析結(jié)果的準確度，準確度(相對標準偏差)優(yōu)于1%。

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