技術(shù)參數(shù)：③

產(chǎn)品型號(hào)	YHPM-175	YHPM-300	YHPM-500
進(jìn)料粒度	<20mm?	<30mm?	<30mm?
研磨盤直徑	175mm	300mm	500mm
出料粒度 （可調(diào)節(jié)）	<0.048-3mm（7-300目）
生產(chǎn)能力	25-50kg/h	80-100kg/h	200-500kg/h
電源	380V  50HZ	380V  50HZ	380V  50HZ
電機(jī)功率	2.2kw	3kw	4kw
機(jī)身重量	120kg	250kg	400kg
外形尺寸（長?寬?高）	800?500?520mm	1000?550?750mm	1000?850?900mm
研磨盤選配	高錳鋼、不銹鋼、剛玉陶瓷、氧化鋯、碳化鎢 根據(jù)所破碎物料不同，選配不同研磨盤，價(jià)格不等

新型圓盤碎石機(jī)適用于礦場、化學(xué)醫(yī)學(xué)、玻璃陶瓷、單晶硅、多晶硅、礦石、光學(xué)玻璃、電子電池、花崗石、石灰石、科研院校等行業(yè)的破碎作業(yè)。主要用于光譜分析的樣品制備。用于中硬性、硬性、脆性、纖維性材料等樣品的研磨。

產(chǎn)品特點(diǎn)
1.圓盤間距連續(xù)可調(diào)，從而對出樣尺寸可以進(jìn)行預(yù)先設(shè)定，達(dá)到對出樣進(jìn)行有效的控制。
2.多種材質(zhì)的研磨圓盤可供選擇。
3.操作便捷，易于清洗。
4.高細(xì)度研磨，一次性出料粒度小于48um。

5.易攜提手人體工學(xué)設(shè)計(jì)，研磨套件安裝方便。
6.研磨內(nèi)腔光滑，清洗簡單，額外的密封圈保證研磨室密封。

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碳酸鈣圓盤破碎機(jī)多種材質(zhì)的研磨界面，給用戶避免樣品污染條件的研磨制樣，提供了多項(xiàng)的選擇，輕松制樣。可進(jìn)行批次或連續(xù)式的預(yù)粉碎和精細(xì)粉碎處理。逐步設(shè)置的盤磨間隙先初步破碎樣品；然后離心力將樣品移動(dòng)到研磨盤外部區(qū)域繼續(xù)細(xì)粉碎。她是由兩塊圓盤構(gòu)成研磨腔體，其中一塊為由馬達(dá)驅(qū)動(dòng)進(jìn)行轉(zhuǎn)動(dòng)的動(dòng)盤，一塊為靜盤，通過兩個(gè)圓盤互相旋轉(zhuǎn)產(chǎn)生的壓力和摩擦力實(shí)現(xiàn)對樣品的粉碎。

鶴壁銀河分析儀器化工有限公司不同規(guī)格機(jī)器多種材質(zhì)的顎板，可供客戶的需求來進(jìn)行選擇 銀河儀器相關(guān)設(shè)備
顎式破碎機(jī) 、雙輥破碎機(jī) 、錘式破碎機(jī) 、振動(dòng)研磨儀 、盤式研磨儀（高錳鋼、不銹鋼、剛玉陶瓷、氧化鋯、碳化鎢）
聯(lián)合制樣機(jī)組（顎破雙輥聯(lián)合機(jī)組、顎破錘破聯(lián)合機(jī)組、雙輥錘破聯(lián)合機(jī)組、顎破盤磨聯(lián)合機(jī)組、錘破盤磨聯(lián)合機(jī)組）

小型粉碎機(jī)該如何清洗？

1. 生產(chǎn)結(jié)束，關(guān)掉電源，將生產(chǎn)中所有物料按物料進(jìn)出站程序送交中間站。

2. 向水槽內(nèi)注入約2/3體積的30~40℃溫水，浸泡10-30min，再用流水分別將收粉袋正反面反復(fù)洗滌至收粉袋潔凈、篩網(wǎng)、風(fēng)管用軟毛刷洗滌致水液澄清，用離子水沖洗三遍，在與粉碎間相同的級別潔凈區(qū)內(nèi)干燥，備用。

3. 用潔凈的干毛巾將上述各部位擦干，再用75%的乙醇擦拭清潔。

4. 清掃、沖洗操作間地面至地面無粉塵、積水。

5. 將操作間地面、配電柜、電機(jī)及操作柜擦拭干凈。