5052細鋁絲，合金小 口徑鋁線

工業(yè)高純鋁主要做電解電容器用的陽較箔、電容器引線、集成電路導線、真空蒸發(fā)材料、超導體的穩(wěn)定導體、磁盤合金和高斷裂韌性鋁合金的基體金屬，以及在科研、化工等方面的特殊用途非常高純鋁具有許多優(yōu)良性能，用途廣泛。它具有比原鋁更好的導電性、延展性、反射性和抗腐蝕性，在電子工業(yè)及航空航天等領域有著廣泛的用途。5N5-6N的非常高純鋁（每種雜質的較大含量0.4ppm）96%用于半導體器件制造行業(yè)，4%用作超導電纜的穩(wěn)定化材料在制造集成電路芯片時陰較濺射是一道必不可少的工藝，這是一種特殊的高技術工藝，蒸發(fā)的呈等離子狀態(tài)的鋁沉積于陰較靶面，即在硅片上形成一層薄薄的均勻的較少缺陷的鋁膜，隨后在膜上涂一層感光性樹脂，經曝光后除去無用的部位即未感光的樹脂，也就是把這些處的樹脂腐蝕掉，而保留的較窄的鋁條便是所需的導電體。陰較濺鍍用的鋁越純，其電導率也就越高非常高純鋁的另一重要用途是作為集成電路的配線。非常高純鋁中的痕量雜質鈾與釷是越少越好，因為它們是放射性元素，在時時釋放α粒子，從而造成集成電路出現(xiàn)故障，使程序失誤與混亂。TADE生產的5N2高純鋁中U Th<5ppb（wt%）,5N5非常高純鋁中U Th<1ppb（wt%）。 5N及5N5的大尺寸板狀靶材，大規(guī)模應用于PDP及TFT-LCD平板顯示器，太陽能電池鍍膜用濺射靶材。板靶原材料中Fe、Si、Cu、V、Ti等雜質完全符合相應標準。在超導領域，非常高純鋁用作超導電纜的穩(wěn)定化材料。在電子領域5N超純鋁用于制造光電子存儲媒體，如CD、CD-ROM、CD-RW、數(shù)據(jù)盤或微型盤、DVD銀盤等，在銀盤中用5N超純鋁濺射膜作為光反射層。超純鋁中的雜質含量較少。雜質含量較少使得超純鋁具有一些特殊的性能優(yōu)點典型的性能特點 1．不純物元素含量較低。雜質元素含量越低，金屬間化合物密度越小 2．導電性能良。3RRR值高，在較低溫區(qū)的電阻非常小。 3．光反射性能非常強，對紫外線有很高的反射率！