真空爐

jtrvf系列-真空爐：電子陶瓷、磁性材料的燒結及金屬熱處理。



    
用途： 真空爐主要用于粉末冶金制品、金屬注射成型制品、不銹鋼基、硬質合金、超合金、高比重合金、陶瓷材料、磁性材料、釹鐵硼等的燒結。在真空中各種金屬氧化物的飽和蒸氣壓很低，可以促使氧化物的分解與排除， 因而處理零件表面光亮度高，同時金屬具有很強的活性，可以起活化燒結作用。 特點： 均勻的加熱、可靠的隔熱及測溫 合理的加熱結構，優(yōu)良的材質，保證真空狀態(tài)下爐溫的均勻性 采用品牌測溫元件，準確測溫。 先進的自動控制及可靠的安全聯鎖 采用計算機實現溫度、動作過程全自動控制，采用plc實現安全聯鎖，具有超壓、超溫水溫過高等聲光報警及聯鎖工能 穩(wěn)定高效的真空系系統 采用先進的真空機組，實現高真空及達到低的漏氣率的要求。 提高生產效率的快冷系統 配有內循環(huán)快速冷卻裝置，高效換熱技術多方向吹向工件，冷卻快速均勻。 較之外循環(huán)快速冷卻裝置，又具有占地小，面積小，起動溫度高，真空抽速快等優(yōu)點。 結構： 真空爐分立式和臥式兩種結構。根據爐溫高低和客戶的工藝要求，采用石墨或鉬或鎢作發(fā)熱體及隔熱屏。發(fā)熱體可分成多區(qū)布置，各區(qū)獨立控溫，可編程pid調節(jié)。爐膛可整體移出，便于維護。配備充氣裝置、可向爐內充入保護性氣體或工作氣體，充氣流量可調。配備內循環(huán)冷卻裝置，可加速爐內物料冷卻，縮短工作周期，利于提高產品質量和工作效率 產品型號規(guī)格 jt-rvf50 jt-rvf100 jf-rvf200 jt-rvf300 jt-rvf400 額定裝載量（kg） 50 100 200 300 450 額定爐溫（℃） 1550 1550 1550 1550 1550 極限爐溫（℃） 1650 控溫精度（℃） ≤±5 額定功率（kw） 60 120 150 180 210 額定電源電壓（v） 380 額定加熱電壓（v） 根據設計確定，均配置有爐前變壓器 極限真空度(pa) ≤6.67(空爐冷態(tài)) 真空壓升率（pa/24h） ≤50 工作區(qū)尺寸（mm） （寬×高×長） 300×300×400 300×300×500 450×400×670 450×400×850 600×600×1000 控溫系統配置 采用日本shimaden（島電）可編程調節(jié)器 真空系統配置 旋片式真空泵+羅茨真空泵 根據客戶需要，可升級配置。 1、可配內置式快冷系統； 2、可配plc可編程控制器及圖形操作終端（觸摸屏）控制系統； 3、根據真空度的要求加配油擴散泵，極限真空度可達6.7×10-4pa； 4、采用特殊設計及選材的發(fā)熱體和隔熱屏，燒結溫度可達2100℃以上； 5、微負壓燒結系統：在燒結階段可設定一個微負壓力值，實現爐內恒壓燒結，改善產品致密性，提高燒結產品質量。