主營(yíng):磁力拋光機(jī),圓管拋光機(jī),平板拉絲機(jī),磁力研磨機(jī),鏡面拋光機(jī),砂帶機(jī),研磨機(jī),震動(dòng)研磨機(jī)
結(jié)構(gòu)特點(diǎn)
1、 拋光盤、拋光頭的驅(qū)動(dòng)電機(jī)采用先進(jìn)的變頻調(diào)速器,可實(shí)現(xiàn)緩啟動(dòng)、緩?fù)\嚮蚨c(diǎn)停車;
2、 拋光盤采用交叉滾子軸承支撐,具有剛性穩(wěn)定,高可靠性;在高轉(zhuǎn)速下仍能確保準(zhǔn)確。
3、 拋光液從拋光頭兩側(cè)由拋光液泵循環(huán)加注,完全滿足拋光的工藝要求;
4、 壓力采用氣動(dòng)三段加壓(負(fù)壓、自重、正壓);
5、 采用特殊進(jìn)口的氣缸實(shí)現(xiàn)自動(dòng)加壓;
6、 拋光盤由減速電機(jī)驅(qū)動(dòng),其運(yùn)行速度可通過操作面板上的旋扭進(jìn)行無級(jí)調(diào)節(jié);
7、 拋光頭的搖動(dòng)采用平行滑動(dòng)裝置,剛性高,穩(wěn)定性好,壓力均勻。搖動(dòng)速度可通過操作面板上的旋扭進(jìn)行無級(jí)調(diào)節(jié);
8、 拋光頭的升降、翻轉(zhuǎn)采用氣壓驅(qū)動(dòng),保證了運(yùn)轉(zhuǎn)的平穩(wěn)性和操作的安全性;
9、 控制系統(tǒng)采用PLC控制,可根據(jù)用戶要求設(shè)定運(yùn)行程序,實(shí)現(xiàn)動(dòng)態(tài)接觸啟動(dòng)、停車;
10 由于采用了日本EVATECH公司的獨(dú)特設(shè)計(jì),該機(jī)器工作時(shí)可實(shí)現(xiàn)效率高低耗,且故障發(fā)生少。
主要技術(shù)參數(shù)
1、 拋光盤直徑: Φ1200mm 10拋光盤電機(jī):Y132S-4 11KW 1500rpm
2、 拋光頭直徑: Φ950mm 11、搖動(dòng)電機(jī): YEJ802-4 1.5KW 1500rpm
3、 拋光頭移動(dòng)幅度: ±350m m 12、拋光液泵: AB200 450W 200L/min
4、 拋光盤相對(duì)拋光頭的偏心量:50~300mm 13、攪拌電機(jī): 5IK90GU 100rpm
5、 拋光盤轉(zhuǎn)速: 20~50rpm 14、電源(三相五線制):AC380V
6、 拋光頭搖動(dòng)速度: 0~100mm/s 15、氣源:0.5-0.65Mpa 1000L/min
7、 拋光頭升降行程: 185mm 16、外形尺寸:3120X 2050X2319
8、 拋光頭翻轉(zhuǎn)角度: 77.5° 17、質(zhì)量:約5000Kg
9、 拋光工件的厚度: 0.3~1.1mm
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