供應(yīng)擴散爐

擴散/氧化系統(tǒng)是半導(dǎo)體器件及大規(guī)模集成電路制造過程中用于對晶片進行擴散、氧化、退火、合金及燒結(jié)等工藝的一種熱加工設(shè)備。其組成有：加熱爐（擴散爐主機）、凈化工作臺、送片系統(tǒng)（推拉舟系統(tǒng)）、氣源系統(tǒng)、控制系統(tǒng)等。

1、全中文操作界面，可編輯參數(shù)，操作簡便。

2、可保存多條工藝曲線，每條曲線可設(shè)置多步。

3、工藝曲線的自動運行控制功能。

4、自動運行中可暫停/繼續(xù)運行功能。

5、工藝中可強制跳到下一工藝步運行功能。

6、智能升降溫斜率控制功能。

7、PID參數(shù)自整定功能。

8、可存儲多組PID參數(shù)供系統(tǒng)運行調(diào)用功能。

9、系統(tǒng)故障的檢測與啟動緊急信號功能。

10、系統(tǒng)誤差修正（單點或多點動態(tài)修正功能）。

11、智能懸臂推拉舟控制功能。

12、工藝氣體的程序控制功能（電磁閥/質(zhì)量流量控制器）。

13、停電后斷點繼續(xù)運行功能等等。

該系統(tǒng)可根據(jù)用戶的特殊要求增減或開發(fā)相應(yīng)的功能。

擴散爐主機主要技術(shù)指標

    可配工藝管外徑：2-8英寸

    可配工藝管數(shù)量：1-4管/臺

    工作溫度范圍：400-1286℃

    恒溫區(qū)長度及精度：300-1000mm   800-1300℃±0.5℃

    單點溫度穩(wěn)定性：800-1300℃±1℃/24h

    非常大可控升溫速度：15℃/min

    非常大降溫速度：5℃/min