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形狀:
顆粒,圓形
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含量:
99.99%
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用途:
科研實驗專用
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包裝:
真空包裝
形狀:
顆粒,圓形
含量:
99.99%
用途:
科研實驗專用
包裝:
真空包裝
科研實驗專項使用氧化鋁晶體顆粒磁控濺射靶材
化學符號:Al2O3
外 觀:透明
規(guī)格:1-3mm
純度:4N
密 度:4g/cm3
熔 點:2045℃
沸 點:2980℃
蒸發(fā)溫度:1800℃
蒸發(fā)方式:電子束
透明范圍/nm:200-7000
折射率n(波長/nm):1.59(600)/1.56(1600)
基片溫度為300℃時,λ=600nm,n=1.62;λ=1.6μm,n=1.59;
基片溫度為40℃時, λ=600nm,n=1.59;λ=1.6μm,n=1.56;
蒸發(fā)源材料:W 、Mo
溶 解 于:純酸、堿
薄膜的機械和化學性質:形成光滑的硬膜
性 能:高純氧化鋁具有耐腐蝕、耐高溫、高硬度、高度度、抗磨損、舒緩反應、絕緣性好和表面積大等特點;不溶于水,微溶于強酸和強堿溶液,并能被氫氟酸和硫酸氫鉀浸蝕;
高純超細氧化鋁的優(yōu)點:純度高、粒徑小、密度大、高溫強度大、耐蝕性和易燒結;
應 用:增透膜,多層膜,防反膜,眼鏡膜,保護膜
用 途:廣泛應用于生物陶瓷、精細陶瓷、化工催化劑、稀土三基色熒光粉、集成電路芯片、航空光源器件、濕敏性傳感器及紅外吸收材料;
陶瓷靶材采用常壓燒結,氣氛燒結,熱等靜壓燒結等工藝,嚴格控制原料的純度,成分及成型坯料額設計尺寸,坯料經過準確機械加工成靶材,可根據客戶要求定制加工特殊摻雜比例靶材。
產品優(yōu)勢 靶材純度高,致密度高,成分均勻 廠家直銷
產品規(guī)格 圖片靶材,矩形靶材,圓柱靶材,臺階片靶材,管型靶材,根據客戶的圖紙定制
產品用途 磁控濺射鍍膜材料等
產品附件 正式報價單/購銷合同/裝箱單/材質分析檢測單
適用儀器 各類型號磁控濺射設備
服務項目 靶材成份比例、規(guī)格、純度均可按需定制。科研單位貨到付款,質量保證,售后無憂
加工流程 熔煉→提純→鍛造→機加工→檢測→包裝出庫
廠家優(yōu)勢
廠家直銷
收貨后7日內可協(xié)商退換貨
靶材種類齊全
支持合金靶材定制,請?zhí)峁┌胁漠a品的元素、比例(重量比或原子比)、規(guī)格,我們會盡快為您報價。
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服務項目:靶材成份比例、規(guī)格、純度均可按需定制?蒲袉挝回浀礁犊睿|量保證,售后無憂!
產品附件:發(fā)貨時產品附帶裝箱單/質檢單/
適用儀器:多種型號磁控濺射、熱蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)設備
質量控制:嚴格控制生產工藝,采用輝光放電質譜法GDMS或ICP光譜法等多種檢測手段,分析雜質元素含量保證材料的高純度與細小晶粒度;可提供質檢報告。
加工流程:熔煉→提純→鍛造→機加工→檢測→包裝出庫
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