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滴膠銘牌平面拋光 標牌平面鏡面研磨拋光

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  • 發(fā)布時間:2024-04-25

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 平面研磨拋光加工-高等滴膠銘牌標牌平面鏡面研磨拋光加工 平面研磨拋光加工-高等滴膠銘牌標牌平面鏡面研磨拋光加工示例圖1

  平面研磨拋光加工-高等滴膠銘牌標牌平面鏡面研磨拋光加工

  平面研磨拋光加工-高等滴膠銘牌標牌平面鏡面研磨拋光加工 之為粗磨、精磨與拋光,這三步獲得的表面光潔度是不同的。

  平面研磨拋光加工-高等滴膠銘牌標牌平面鏡面研磨拋光加工 之粗磨:去除毛坯的大部分余量, 后所達到的效果要保持到大致的幾何形狀與粗糙度;

  平面研磨拋光加工-高等滴膠銘牌標牌平面鏡面研磨拋光加工 之精磨:精磨是發(fā)生在精磨的基礎上,又是為拋光準備的一步, 終達到的結(jié)果剛好是與精磨相板,結(jié)果是能夠保持準確的幾何形狀以及精細的裂紋高層度;拋光:

  平面研磨拋光加工-高等滴膠銘牌標牌平面鏡面研磨拋光加工 之拋光是 后一個工序過程,也是 終實現(xiàn)光學表面層實現(xiàn)的 后一個部分,前提下前兩者必須要為 后一步拋光做好準備,使得在整個拋光過程當中,盡量去除精磨與粗磨所留下的破環(huán)層,實現(xiàn)光學表面 理想效果。

平面研磨拋光加工-高等滴膠銘牌標牌平面鏡面研磨拋光加工示例圖2

  研磨平面的表面質(zhì)量與選擇的磨料有密切關系。由于磨料不合適而出現(xiàn)不易去掉的毛刺以及粗糙度差等現(xiàn)象。根據(jù)平面研磨時,對研磨盤表面的平面度和研磨盤轉(zhuǎn)動后的平面要求都很高,它們對研磨零件尺寸精度影響非常大,易造成厚度不均勻,因此,一般平面度允許誤差小于0.015~0.02mm。

  平面研磨拋光加工-高等滴膠銘牌標牌平面鏡面研磨拋光加工 一般是在平面研磨機上進行的。在零件研磨之前,先將研磨零件用清漆粘在工件盤上,工件盤是直徑為小60毫米的鋼質(zhì)圓盤,平面研磨盤是直經(jīng)為中400毫米的鑄鐵盤,按其精度分為粗、精兩種,是分別用在粗磨、精磨兩道工序上。專為零件研光用的研盤是由錫、銻、鋁合金制成。

平面研磨拋光加工-高等滴膠銘牌標牌平面鏡面研磨拋光加工示例圖3

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