鄭州九德新材料科技發(fā)展有限公司

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主營:氧化鋁微粉,日本不二見,PWA

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供應半導體單晶硅片研磨微粉(PWA)

價格

電議 元/千克

  • 單價:電議
  • 最小起訂量: 不限
  • 所在地:河南 鄭州
  • 供貨總量: 50000千克
  • 發(fā)布時間:2012-03-23

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產品描述

平板型氧化鋁研磨微粉產品介紹一、企業(yè)概況:鄭州九德新材料科技發(fā)展有限公司(九德科技)是專業(yè)從事 平板狀氧化鋁研磨拋光微粉CA 系列產品) 的生產、研發(fā)、銷售于一體的科技型企業(yè),已通過ISO9001-2000國際質量標準,具有國際先進水平的生產線和一流的員工隊伍,擁有 Coulter Multisizer II型粒度分析儀和其它精密的質控儀器。該產品填補了國內在高檔磨料上的空白,改變了我國長期依賴進口的局面,現已穩(wěn)定地供應給美國、日本、韓國、馬來西亞、臺灣地區(qū)以及國內眾多企業(yè)。二、產品介紹:該研磨拋光微粉是以工業(yè)氧化鋁為主要原料,采用特殊礦化劑、高溫控制晶粒形狀及大小,經特殊處理和嚴格的分級而制成。硬度僅次于金剛石,是非常優(yōu)異的精密研磨拋光、研磨微粉。1、平板型氧化鋁研磨拋光微粉的性能:平板型氧化鋁研磨拋光微粉顆粒呈獨特的平板狀結構,硬度高達莫氏九級,磨削力強,不易產生劃痕,可得到高效率、高精度的被加工表面,有特殊設計的粒度分布,質量同日本 FUJIMI公司的PWA和美國Microgrit WCA相當。2、平板型氧化鋁研磨拋光微粉的特點1)平板型氧化鋁研磨拋光微粉與其它氧化鋁研磨拋光微粉的區(qū)別是:片狀,硬度高,粒度均勻。2)特點為:A、形狀為平板狀,即片狀,使磨擦力增大,提高了磨削速度,提高了工效,因此可減少磨片機的數量、人工和磨削時間,如顯像管玻殼磨削工效能提高3-5倍;B、由于形狀為平板狀,故對于被磨對象(如半導體硅片等)來說不易劃傷,合格品率可提高10%15%,如半導體硅片,其合格品率一般能達到99%以上;C、由于硬度比普通氧化鋁研磨拋光微粉高,故用量比普通氧化鋁研磨拋光微粉要少,如果磨同樣數量的產品,其用量比普通氧化鋁研磨拋光微粉要節(jié)約40%50%;D、與國外同類產品相比,質量達到或超過國外同類產品,品質已達到國際標準,但產品價格只有國外同類產品的60%--70%E、由于平板型氧化鋁研磨拋光微粉的優(yōu)良性能,故加工的產品合格品率高,質量穩(wěn)定,生產成本只有原來的50%-60%3、平板型氧化鋁研磨拋光微粉的用途 1)電子行業(yè)  半導體單晶硅片、壓電石英晶體、化合物半導體(砷化鎵、磷化銦)的研磨拋光。2)玻璃行業(yè)  硬質玻璃和顯象管玻殼的加工。3)涂附行業(yè)  特種涂料和等離子噴涂的填充劑。4)金屬和陶瓷加工業(yè)。


氧化鋁(Al2O3)性能指標:物理指標:化學名稱 外觀 密度 莫氏硬度 顯微硬度Al2O3 白色 3.96-3.98g/cm3 9.0 2200-2300kg/mm化學指標:化學成份 指標(%) 測度結果(%)Al2O3  99.0 99.36SiO2  0.2 0.027Na2O  0.6 0.35Fe2O3  0.1 0.03產品粒度:粒度號 平均粒度(µm)CA45 35.0±2.0CA40 30.0±2.0CA35 25.4±1.6CA30 20.5±1.5CA25 17.2±1.1CA20 14.5±1.0CA15 10.5±1.0CA12 8.0±0.8CA9 6.2±0.5CA5 4.8±0.3CA3 3.0±0.3

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