平板型氧化鋁研磨微粉產品介紹
一、企業(yè)概況:
鄭州九德新材料科技發(fā)展有限公司(九德科技)是專業(yè)從事 “平板狀氧化鋁研磨拋光微粉”(CA 系列產品) 的生產、研發(fā)、銷售于一體的科技型企業(yè),已通過ISO:9001-2000國際質量標準,具有國際先進水平的生產線和一流的員工隊伍,擁有 Coulter Multisizer II型粒度分析儀和其它精密的質控儀器。該產品填補了國內在高檔磨料上的空白,改變了我國長期依賴進口的局面,現已穩(wěn)定地供應給美國、日本、韓國、馬來西亞、臺灣地區(qū)以及國內眾多企業(yè)。
二、產品介紹:該研磨拋光微粉是以工業(yè)氧化鋁為主要原料,采用特殊礦化劑、高溫控制晶粒形狀及大小,經特殊處理和嚴格的分級而制成。硬度僅次于金剛石,是非常優(yōu)異的精密研磨拋光、研磨微粉。
1、平板型氧化鋁研磨拋光微粉的性能:平板型氧化鋁研磨拋光微粉顆粒呈獨特的平板狀結構,硬度高達莫氏九級,磨削力強,不易產生劃痕,可得到高效率、高精度的被加工表面,有特殊設計的粒度分布,質量同日本 FUJIMI公司的PWA和美國Microgrit 的WCA相當。
2、平板型氧化鋁研磨拋光微粉的特點
1)平板型氧化鋁研磨拋光微粉與其它氧化鋁研磨拋光微粉的區(qū)別是:片狀,硬度高,粒度均勻。
2)特點為:
A、形狀為平板狀,即片狀,使磨擦力增大,提高了磨削速度,提高了工效,因此可減少磨片機的數量、人工和磨削時間,如顯像管玻殼磨削工效能提高3-5倍;
B、由于形狀為平板狀,故對于被磨對象(如半導體硅片等)來說不易劃傷,合格品率可提高10%至15%,如半導體硅片,其合格品率一般能達到99%以上;
C、由于硬度比普通氧化鋁研磨拋光微粉高,故用量比普通氧化鋁研磨拋光微粉要少,如果磨同樣數量的產品,其用量比普通氧化鋁研磨拋光微粉要節(jié)約40%至50%;
D、與國外同類產品相比,質量達到或超過國外同類產品,品質已達到國際標準,但產品價格只有國外同類產品的60%--70%;
E、由于平板型氧化鋁研磨拋光微粉的優(yōu)良性能,故加工的產品合格品率高,質量穩(wěn)定,生產成本只有原來的50%-60%。
3、平板型氧化鋁研磨拋光微粉的用途 :
1)電子行業(yè) : 半導體單晶硅片、壓電石英晶體、化合物半導體(砷化鎵、磷化銦)的研磨拋光。
2)玻璃行業(yè) : 硬質玻璃和顯象管玻殼的加工。
3)涂附行業(yè) : 特種涂料和等離子噴涂的填充劑。
4)金屬和陶瓷加工業(yè)。
氧化鋁(Al2O3)性能指標:
物理指標:
化學名稱 外觀 密度 莫氏硬度 顯微硬度
Al2O3 白色 3.96-3.98g/cm3 9.0 2200-2300kg/mm
化學指標:
化學成份 指標(%) 測度結果(%)
Al2O3 > 99.0 99.36
SiO2 < 0.2 0.027
Na2O < 0.6 0.35
Fe2O3 < 0.1 0.03
產品粒度:
粒度號 平均粒度(µm)
CA45 35.0±2.0
CA40 30.0±2.0
CA35 25.4±1.6
CA30 20.5±1.5
CA25 17.2±1.1
CA20 14.5±1.0
CA15 10.5±1.0
CA12 8.0±0.8
CA9 6.2±0.5
CA5 4.8±0.3
CA3 3.0±0.3
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