牛津日立 新一代OE750 電火花直讀光譜儀

日立分析儀器新一代OE750直讀光譜儀

實驗室檢測儀器解決方案為您解決產(chǎn)品檢測的難題。

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用于一體金屬分析控制、質量控制，絕不妥協(xié)、高性能金屬分析，價格合理

由于復雜的供應鏈，以及作為基礎材料使用的廢舊金屬數(shù)量的增加，鑄造廠和金屬制造商在控制熔體中的雜質和痕量元素時，面臨著更多的壓力。新型OE750型直讀光譜儀具有從未有過的性能水平。它涵蓋金屬中所有元素的光譜，并實現(xiàn)對某些元素的檢出限。因此，此款分析儀具備價格高昂的同類儀器所能提供的功能水平，可為眾多鑄造廠和金屬制造商提供優(yōu)質分析。

OE750實現(xiàn)高分辨率和寬動態(tài)范圍要歸功于采用了先進CMOS探測器技術的革命性新光學理念。因此，這種新型分析儀能覆蓋非常寬的波長范圍；這意味著該分析儀能測量金屬中ppm級別的所有元素。這對于滿足當今嚴格的金屬規(guī)格分析至關重要，該分析儀可以滿足新的ASTM E415標準中關于碳鋼和低合金鋼的試驗方法的要求。

OE750是鋁鑄件的理想光譜儀，因為它可以測定亞共晶和過共晶鋁硅合金中含量較低的磷。它可以分析銻、鉍、鍶和鈉，以及雜質和痕量元素，從而確保這些元素能夠被控制在鋁熔體中，以優(yōu)化結構改造。創(chuàng)新性光學設計能實現(xiàn)更短的啟動時間，因為光學系統(tǒng)的體積相對較小。這有助于那些需要在多點測量驗證熔體質量的工廠實現(xiàn)高批量生產(chǎn)。

除了新的光學設計之外，OE750還有其他支持大批量金屬分析的技術特性。它有一個新的密封火花臺，具有優(yōu)化層流設計，可降低氬氣消耗，降低污染的可能性，并大大降低維護要求。帶有低壓氬氣吹掃的獨特中壓系統(tǒng)可減少泵的使用。這可將泵的功耗降低90%，并避免油氣污染，從而增加可靠性和儀器的正常運行時間。這使得OE750具有高可靠性和低運行成本。

除創(chuàng)新性硬件技術外，新型OE750還包括可提高性能的軟件。例如，它包括日立牌號數(shù)據(jù)庫，該數(shù)據(jù)庫包含來自69個國家的339,000多種材料的1,200多萬條記錄和標準，減少了人工查閱牌號目錄的時間和潛在錯誤。可選的爐料校正軟件會自動計算添加至熔體中的正確材料量，使其符合規(guī)范。

日立OES產(chǎn)品業(yè)務開發(fā)經(jīng)理Wilhelm Sanders表示：“在過去，鑄造廠和金屬加工企業(yè)在購買儀器時，不得不在高分析性能和可接受價格范圍之間作出選擇�，F(xiàn)在有了新型OE750，他們無需想出折中方案了。OE750能憑借一套可使用的解決方案提供一體的金屬分析�！�

介紹OE750：專為全新級OES分析而設計

OE750是這款自創(chuàng)性設備。這款OES光譜儀具有但其購買價格優(yōu)惠，運行成本合理。目前，其是同類產(chǎn)品中能夠實現(xiàn)全新級OES分析的光譜儀，例如：

分析鋼鐵中所有合金、處理、痕量元素、殘余元素和夾雜元素的能力。OE750能提供較低的檢出限，可檢測含量低于10ppm的銻、硼、鉛、氮、鋅、鉍、硒和碲。

符合經(jīng)修訂的ASTM E415中有關碳鋼和低合金鋼測試方法和ASTM E1086中有關不銹鋼分析標準測試方法的要求。此款分析儀可輕松檢測含量為10ppm的氮元素。

允許鋁壓鑄機將近共晶和過共晶鋁-硅合金中的磷、銻和鉍的含量控制在較低限值內�？刂拼祟愒�素及其他夾雜元素和痕量元素可確保鋁加工廠對優(yōu)化熔體結構具備更強的控制能力。

輕松檢測含量為1ppm的廢金屬中的痕量元素，包括鋅。這對回收汽車部件或分揀來料廢品至關重要。

通過分析氮、氧和氫等氣體元素，控制鈦的生產(chǎn)。

分析精煉廠中銅陽較以及鑄造廠中黃銅、青銅、錫青銅和其他銅合金的潛力。

一體的痕量元素分析，用于支持高等金屬加工和成型廠所用進料的材料可靠性鑒定測試。

此款光譜儀的這些能力可確保鑄造廠和金屬加工廠初次無需出于成本考量而降低性能標準。對于鑄造廠、煉鋼廠、金屬制造商和廢金屬廠而言，OE750以具有成本效益的價格，提供全新級OES分析。

質量控制，符合標準

OE750在同類產(chǎn)品中涵蓋金屬中元素的整個光譜，能提供某些低檢出限。此性能通過構思新光學概念和發(fā)展其他技術創(chuàng)新而實現(xiàn)，例如新型密封火花臺和火花放光源。

額外優(yōu)點（例如：啟動速度加快，維護間隔縮短）確保光譜儀支持高產(chǎn)量生產(chǎn)和高標準 的PMI質量保證計劃。

迄今為止，在整個波長范圍內ppm級別的高等金屬分析需要昂貴的OES光譜儀。OE750已完全改變這一點。OE750設計的價格合理，可為鑄造廠、金屬加工公司和回收設施提供高精度現(xiàn)場分析。

您無須為了成本考量而降低性能標準。以下是五個原因：

在同類光譜儀產(chǎn)品中性能。

一項革命性的新型光學設計，為OE750提供了較高的光學分辨率和動態(tài)范圍。該光譜儀可測量金屬中所有ppm級別含量的元素。這對處于金屬生產(chǎn)前沿的公司而言至關重要。例如，該光譜儀可滿足新的ASTM E415測試方法對碳鋼和低合金鋼的要求。該光譜儀能夠檢測鋁合金中10ppm級別含量的磷、硼和銻元素。OE750可確保來料符合指定標準，并有助于充分利用廢料，例如，它可測量低于1ppm含量級別的鋅元素。

OE750通過降低氬氣消耗并提高電光轉換效率的運行具有難以置信的成本效益。

OE750的創(chuàng)新設計還可為您帶來其他益處。密封火花臺具有優(yōu)化氣流設計，可降低氬氣消耗，從而使氬氣成本削減高達5,500美元/年（基于300次測量/天）。事實上，該組件位于密封裝置中，可大限度地減少污染，從而減少光譜儀停止運行以進行維護的時間。該光譜儀可在中壓環(huán)境下運行，由此允許使用僅在一段時間內需要工作的無油泵，可將泵的功耗降低90%，同時增加儀器的可用性。

帶有高等軟件選項的直觀控件使OE750易于使用，是一筆寶貴的財產(chǎn)。

如果說這款光譜儀都難以使用，則世界上的技術便毫無實際用途。這就是我們確保OE750包含直觀軟件的原因，該軟件專為支持當前的高性能金屬分析而設計。例如，日立牌號數(shù)據(jù)庫（GRADE Database）是標準配置，可確保立即訪問來自69個國家/標準的339,000多種材料中的1,200多萬條記錄。另一個示例是可選爐料校正軟件，該軟件可在計算能使熔體符合規(guī)格的成本效益的方法時，考慮熔爐容量和可用材料。

延長正常運行時間和減少維護，可確保您在生產(chǎn)過程中有條不紊。

如上所述，密封光學設計可降低污染的幾率，由此節(jié)省維護、標準化和透鏡清潔時間。通過減小光室的體積，可確保OE750在一小時內隨時進行大量分析（盡管對于遠紫外波長和氮的分析而言，可能需要較長時間）。可根據(jù)需要進行盡可能多的測量，以確保生產(chǎn)符合規(guī)格。

高等數(shù)據(jù)管理允許保存完整記錄，使審計時的一切事項變得更簡單。

OE750配備有與日立ExTOPE Connect高等數(shù)據(jù)管理和存儲服務連接的內置連接器。可免費獲得無限制的安全數(shù)據(jù)存儲，并可從任何連接的計算機上訪問結果�？蓮囊粋�集中位置管理多臺光譜儀，即使這些光譜儀分散在不同場所。這使得存儲大量數(shù)據(jù)并在需要時檢索數(shù)據(jù)變得更加容易，例如在審計期間或響應客戶請求時。