博曼半導體電鍍膜厚儀是一種專門應用于半導體材料、電子器件、微電子學、光通訊和數據儲存工業(yè)中的金屬薄膜厚度測量。
產品用途:電鍍層厚度及多鎳鍍層電位測量
應用領域:PCB、LED、航天航海、電子電器、線路板、五金鎖具、
塑膠電鍍、標準件、釹鐵硼、技術監(jiān)督部門及科研機構。
測量鍍種:裝飾鉻、鎳、銅、鋅、錫、銀、金、鎘、硬鉻、化學鎳、多層鎳,
復合鍍層(如Cr/Ni/Cu)約30幾種鍍層基體組合。如需測量其他鍍層可事先提出.
鍍層底材:金屬、非金屬、釹鐵硼等
鍍層層數:單層及復合多層
測量范圍: 13號~92號元素(保證精度情況下,更厚鍍層也可測量)
博曼半導體電鍍膜厚儀結構緊湊、堅固耐用、用于質量控制的可靠的臺式X射線熒光分析設備,提供簡單、快速、無損的鍍層厚度測量和材料分析。
1898年11月8日,倫琴發(fā)現了X射線,從此無損檢測技術開始發(fā)生了質的變革。它使固體內部的缺陷得以直觀地顯現出來。X射線是一束光子流。在真空中,它以光速直線傳播,本身不帶電,故不受電磁場的影響。具有波粒二象性。從物理學中,我們知道,凡具有加速度的帶電粒子都會產生電磁輻射。因此當電子在高壓電場的作用下,高速運動時,突然撞擊到靶面,(會產生很大的負加速度)從而形成了所謂的韌致輻射。簡單地說,它是由高速運動的電子撞擊靶面而產生的。另一方面,當電子的動能足夠大時,將會把靶面原子的內層電子轟擊出來,在原位置形成孔穴,而此刻,外層的電子(位于高能級)產生躍遷以填補該孔穴。同時,它將多余的能量以X射線的形式放出,形成所謂的標識X射線。標識射線的波長是不連續(xù)的。它取決于靶面的材料。通常用于對材料的化學成分進行定性分析。在無損檢測探傷中,一般用前者。
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