上海微行爐業(yè)有限公司

鎳鈦記憶合金真空熱處理爐

TF1000-200-HV-T10技術(shù)簡(jiǎn)介產(chǎn)品用途：主要用于稀土制備、晶體退火、生物陶瓷、電子陶瓷、特種合金、磁性材料、精密鑄造、硬質(zhì)合金、鎳鈦記憶合金、3D打印金屬件（鈦合金TC4、23鈦等）真空熱處理、真空釬焊等。主要功能和特點(diǎn)：1、爐膛采用氧化鋁多晶纖維材料，保溫性能好，耐

2021-04-15 86000/臺(tái)

硬質(zhì)合金真空釬焊爐

真空釬焊爐CUT250技術(shù)參數(shù)一、設(shè)備介紹1、焊接對(duì)象：天然金剛石、人造單晶、CVD金剛石、PCD/PCBN陶瓷材料等。2、設(shè)備特點(diǎn)：采用了光輻射的加熱方式，大幅提高加熱效率，設(shè)備小型、便捷、直觀、已操作，特別適合超硬工具的行業(yè)特點(diǎn)。采用小型真空密封方式在真空狀態(tài)下進(jìn)行加熱、冷卻

2021-04-15 23000/臺(tái)

箱式氣氛熱處理爐

氣氛爐AF1200-50參數(shù)簡(jiǎn)介設(shè)備簡(jiǎn)介：用途：廣泛用于電子陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機(jī)械、晶體、粉末冶金、納米材料、金屬零件、電子元器件、耐火材料、新材料、粉體材料、特種材料、建材等領(lǐng)域在惰性氣氛環(huán)境下進(jìn)行的燒結(jié)生產(chǎn)。技術(shù)參數(shù)：設(shè)備型號(hào)：AF1200-50爐膛尺

2021-04-15 36300/臺(tái)

真空管式爐 、高真空管式爐

設(shè)備用途本設(shè)備是專為高等院校﹑科研院所的實(shí)驗(yàn)室及工礦企業(yè)在可控多種氣氛及真空狀態(tài)下對(duì)金屬，非金屬及其它化合物進(jìn)行真空燒結(jié)、氣氛保護(hù)燒結(jié)、真空鍍膜、氣氛還原燒結(jié)、CVD實(shí)驗(yàn)、真空退火﹑熔化﹑物質(zhì)成分測(cè)量分析而研制的專項(xiàng)使用理想設(shè)備。應(yīng)用領(lǐng)域半導(dǎo)體、納米材料、碳纖維、石墨烯等新材料、

2021-04-15 56000/臺(tái)

金剛石真空釬焊爐

VF1300-422型真空爐技術(shù)參數(shù)（金屬屏）一、設(shè)備用途本設(shè)備主要應(yīng)用于金屬材料高真空熱處理。主要應(yīng)用行業(yè)與工藝：3D打印金屬工件與合金材料的高真空熱處理；硬質(zhì)合金工具、金剛石砂輪等高真空釬焊；鈦合金植入物等材料高真空除氣。二、主要參數(shù)1、爐型結(jié)構(gòu)：臥式，單室，爐體爐門采用

2021-04-15 250000/臺(tái)

800度不銹鋼內(nèi)膽燒結(jié)爐 高潔

設(shè)備技術(shù)參數(shù):設(shè)備型號(hào)：AF1400爐膛尺寸：300*200*200mm400*300*300mm500*400*400mm600*600*600mm1200*600*600mm較限溫度：1400工作溫度：1300控溫精度：?1度爐內(nèi)溫均：?5度升溫

2021-04-15 50000/臺(tái)

PECVD等離子化學(xué)氣相沉積系

TF1200-PECVD型等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)產(chǎn)品簡(jiǎn)介：此款設(shè)備配有Plasma實(shí)現(xiàn)等離子增強(qiáng)，滑軌式設(shè)計(jì)在操作時(shí)可將實(shí)驗(yàn)需要的恒定高溫直接推到樣品處，使樣品能得到一個(gè)快速的升溫速度，同樣也可將高溫的管式爐直接推離樣品處，使樣品直接暴露在室溫環(huán)境下，得到快速的降溫速率。并可選配氣氛微調(diào)

2021-04-15 50000/臺(tái)

1200度氣氛保護(hù)電爐 氣氛燒

氣氛爐AF1200-50設(shè)備簡(jiǎn)介：用途：廣泛用于電子陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機(jī)械、晶體、粉末冶金、納米材料、金屬零件、電子元器件、耐火材料、新材料、粉體材料、特種材料、建材等領(lǐng)域在惰性氣氛環(huán)境下進(jìn)行的燒結(jié)生產(chǎn)。技術(shù)參數(shù)：設(shè)備型號(hào)：AF1200-50爐膛尺寸：

2021-04-15 1688/臺(tái)

高溫真空熱處理爐 真空光亮

一、設(shè)備基本原理及主要用途1.設(shè)備用途適用于電子陶瓷與高溫結(jié)構(gòu)陶瓷的燒結(jié)、玻璃的準(zhǔn)確退火與微晶化、晶體的準(zhǔn)確退火、陶瓷釉料制備、粉末冶金、納米材料的燒結(jié)、金屬零件淬火及一切需快速升溫工藝要求的熱處理，應(yīng)用于電子元器件、新型材料及粉體材料的真空氣氛處理，材料在惰性氣氛環(huán)境下進(jìn)行

2021-04-15 50000/臺(tái)

1700度氧化鋯高溫?zé)�結(jié)爐

箱式高溫爐BF1800-422設(shè)備簡(jiǎn)介：箱式高溫爐BF1800-422，適用于電子陶瓷與高溫結(jié)構(gòu)陶瓷的燒結(jié)、玻璃的準(zhǔn)確退火與微晶化、晶體的準(zhǔn)確退火、陶瓷釉料制備、粉末冶金、納米材料的燒結(jié)、金屬零件及需高溫要求的熱處理，是科研單位、高等院校、工礦企業(yè)理想的生產(chǎn)設(shè)備。技術(shù)參

2021-04-15 1688/臺(tái)

1700℃高溫實(shí)驗(yàn)馬弗爐

箱式高溫爐BF1700-30設(shè)備簡(jiǎn)介：箱式高溫爐BF1700-30，適用于電子陶瓷與高溫結(jié)構(gòu)陶瓷的燒結(jié)、玻璃的準(zhǔn)確退火與微晶化、晶體的準(zhǔn)確退火、陶瓷釉料制備、粉末冶金、納米材料的燒結(jié)、金屬零件及需高溫要求的熱處理，是科研單位、高等院校、工礦企業(yè)理想的生產(chǎn)設(shè)備。技術(shù)參數(shù)：設(shè)

2021-04-15 1688/臺(tái)

1200度高溫氣氛保護(hù)燒結(jié)爐

氣氛爐AF1200-50設(shè)備簡(jiǎn)介：用途：廣泛用于電子陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機(jī)械、晶體、粉末冶金、納米材料、金屬零件、電子元器件、耐火材料、新材料、粉體材料、特種材料、建材等領(lǐng)域在惰性氣氛環(huán)境下進(jìn)行的燒結(jié)生產(chǎn)。技術(shù)參數(shù)：設(shè)備型號(hào)：AF1200-50爐膛尺寸：500*

2021-04-15 1688/臺(tái)

高真空真空釬焊爐、硬質(zhì)合金

真空釬焊爐CUT180技術(shù)參數(shù)一、設(shè)備介紹1、焊接對(duì)象：天然金剛石、人造單晶、CVD金剛石、PCD/PCBN陶瓷材料等。2、設(shè)備特點(diǎn)：采用了光輻射的加熱方式，大幅提高加熱效率，設(shè)備小型、便捷、直觀、已操作，特別適合超硬工具的行業(yè)特點(diǎn)。采用小型真空密封方式在真空狀態(tài)下進(jìn)行加熱、冷卻

2021-04-15 1688/臺(tái)

鈹銅真空時(shí)效熱處理爐

產(chǎn)品型號(hào)TF1200-200-LV-T7爐管尺寸200*1000mm(管徑*管長(zhǎng)）尺寸重量1233*410*555mm約重210kg額定電壓AC220V50/60Hz額定功率6.5kw

2021-04-15 25600/臺(tái)

鎳鈦材料真空熱處理爐

鎳鈦材料熱處理系統(tǒng)型號(hào)：RCF180一、設(shè)備示意圖：二、設(shè)備介紹：我司自主研發(fā)的高等真空熱處理設(shè)備。它具有效率高、成品質(zhì)量好、智能易操作維護(hù)等特點(diǎn)。設(shè)備可手動(dòng)和自動(dòng)模式切換，PLC程序控制。三、設(shè)備用途：本設(shè)備應(yīng)用領(lǐng)域：鎳鈦根管銼、鎳鈦血管支架、接骨板

2021-04-15 1688/臺(tái)

鎳鈦血管支架真空熱處理爐

鎳鈦材料熱處理系統(tǒng)型號(hào)：RCF180一、設(shè)備示意圖：二、設(shè)備介紹：我司自主研發(fā)的高等真空熱處理設(shè)備。它具有效率高、成品質(zhì)量好、智能易操作維護(hù)等特點(diǎn)。設(shè)備可手動(dòng)和自動(dòng)模式切換，PLC程序控制。三、設(shè)備用途：本設(shè)備應(yīng)用領(lǐng)域：鎳鈦根管銼、鎳鈦血管支架、接

2021-04-15 1688/臺(tái)

不銹鋼密封件封裝焊接爐

真空釬焊爐CUT180技術(shù)參數(shù)一、設(shè)備介紹1、焊接對(duì)象：天然金剛石、人造單晶、CVD金剛石、PCD/PCBN陶瓷材料等。2、設(shè)備特點(diǎn)：采用了光輻射的加熱方式，大幅提高加熱效率，設(shè)備小型、便捷、直觀、已操作，特別適合超硬工具的行業(yè)特點(diǎn)。采用小型真空密封方式在真空狀態(tài)下進(jìn)行加熱、

2020-06-20 50000/臺(tái)

1600度氣氛燒結(jié)爐

氣氛爐AF1400-50設(shè)備簡(jiǎn)介：用途：廣泛用于電子陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機(jī)械、晶體、粉末冶金、納米材料、金屬零件、電子元器件、耐火材料、新材料、粉體材料、特種材料、建材等領(lǐng)域在惰性氣氛環(huán)境下進(jìn)行的燒結(jié)生產(chǎn)。技術(shù)參數(shù)：設(shè)備型號(hào)：AF1700-50爐膛尺寸：500*

2020-06-20 50000/臺(tái)

微行爐業(yè)1200℃箱式氣氛爐

氣氛爐AF1200-50設(shè)備簡(jiǎn)介：用途：廣泛用于電子陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機(jī)械、晶體、粉末冶金、納米材料、金屬零件、電子元器件、耐火材料、新材料、粉體材料、特種材料、建材等領(lǐng)域在惰性氣氛環(huán)境下進(jìn)行的燒結(jié)生產(chǎn)。技術(shù)參數(shù)：設(shè)備型號(hào)：AF1200-50爐膛尺寸：500*

2020-06-20 1688/臺(tái)

氮化鋁陶瓷基板高溫?zé)�結(jié)爐

真空爐VRSF1600-422技術(shù)參數(shù)一、設(shè)備基本原理及主要用途1.設(shè)備用途適用于電子陶瓷與高溫結(jié)構(gòu)陶瓷的燒結(jié)、玻璃的準(zhǔn)確退火與微晶化、晶體的準(zhǔn)確退火、陶瓷釉料制備、粉末冶金、納米材料的燒結(jié)、金屬零件退火等高溫高真空要求的熱處理，應(yīng)用于電子元器件、新型材料及粉體材料的真空氣氛處理，材

2020-06-20 56200/臺(tái)

800度蜂窩陶瓷燒結(jié)爐

氣氛爐AF1200-30設(shè)備簡(jiǎn)介：用途：廣泛用于電子陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機(jī)械、晶體、粉末冶金、納米材料、金屬零件、電子元器件、耐火材料、新材料、粉體材料、特種材料、建材等領(lǐng)域在惰性氣氛環(huán)境下進(jìn)行的燒結(jié)生產(chǎn)。技術(shù)參數(shù)：設(shè)備型號(hào)：AF1200-30爐膛尺寸：30

2020-05-20 1688/臺(tái)

1800度高溫箱式燒結(jié)爐 馬弗

箱式高溫爐BF1800-422-T7設(shè)備簡(jiǎn)介：箱式高溫爐BF1800-422，適用于電子陶瓷與高溫結(jié)構(gòu)陶瓷的燒結(jié)、玻璃的準(zhǔn)確退火與微晶化、晶體的準(zhǔn)確退火、陶瓷釉料制備、粉末冶金、納米材料的燒結(jié)、金屬零件及需高溫要求的熱處理，是科研單位、高等院校、工礦企業(yè)理想的生產(chǎn)設(shè)備。技術(shù)參數(shù)：

2020-05-20 1688/臺(tái)

1200度高溫旋轉(zhuǎn)管式爐

產(chǎn)品型號(hào)TF1200-60-R爐管尺寸60*100*1200mm（異形管兩端直徑60mm,中間直徑100mm）額定電壓AC220V50/60Hz額定功率3kw爐體結(jié)構(gòu)雙層殼體結(jié)構(gòu)，配有風(fēng)冷系統(tǒng)，可使

2020-05-16 1688/臺(tái)

1500度真空氣氛燒結(jié)爐

真空爐VRSF1600型技術(shù)參數(shù)一、設(shè)備基本原理及主要用途1.設(shè)備用途適用于電子陶瓷與高溫結(jié)構(gòu)陶瓷的燒結(jié)、玻璃的準(zhǔn)確退火與微晶化、晶體的準(zhǔn)確退火、陶瓷釉料制備、粉末冶金、納米材料的燒結(jié)、金屬零件淬火及一切需快速升溫工藝要求的熱處理，應(yīng)用于電子元器件、新型材料及粉體材料的真空氣氛處理，

2020-03-20 1688/臺(tái)

1800度氣氛爐 高溫氣氛燒結(jié)

設(shè)備技術(shù)參數(shù):設(shè)備型號(hào)：AF1700爐膛尺寸：300*200*200mm400*300*300mm500*400*400mm600*600*600mm較限溫度：1700工作溫度：1600控溫精度：?1度爐內(nèi)溫均：?5度升溫速率：Max:20℃/M

2020-03-20 1688/臺(tái)

1000度箱式氮?dú)獗Ｗo(hù)爐 可控

設(shè)備技術(shù)參數(shù):設(shè)備型號(hào)：AF1200爐膛尺寸：300*200*200mm400*300*300mm500*400*400mm設(shè)計(jì)溫度：1200工作溫度：1100控溫精度：?1度爐內(nèi)溫均：?5度升溫速率：Max:20℃/Min控制模式：智能PID調(diào)

2020-03-20 1688/臺(tái)

800度箱式真空氣氛爐

簡(jiǎn)單介紹設(shè)備用途：廣泛用于電子陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機(jī)械、晶體、粉末冶金、納米材料、金屬零件、電子元器件、耐火材料、新材料、粉體材料、特種材料、建材等領(lǐng)域在惰性氣氛環(huán)境下進(jìn)行燒結(jié)的生產(chǎn)及實(shí)驗(yàn)。(80L)1200度氣氛爐的詳細(xì)介紹：技術(shù)參數(shù)設(shè)備名稱：1200度氣氛爐設(shè)備

2020-03-20 1688/臺(tái)

1500度氣氛爐燒結(jié)爐 光亮還

簡(jiǎn)單介紹設(shè)備用途：廣泛用于電子陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機(jī)械、晶體、粉末冶金、納米材料、金屬零件、電子元器件、耐火材料、新材料、粉體材料、特種材料、建材等領(lǐng)域在惰性氣氛環(huán)境下進(jìn)行燒結(jié)的生產(chǎn)及實(shí)驗(yàn)。(80L)1200度氣氛爐的詳細(xì)介紹：技術(shù)參數(shù)設(shè)備名稱：1200度氣氛爐

2020-03-20 1688/臺(tái)

真空管式爐 管式氣氛爐

設(shè)備技術(shù)參數(shù):設(shè)備型號(hào)：TF1200爐膛尺寸：440*60/80/100/120/150/200mm較限溫度：1200工作溫度：1100工作正壓：0.05Mpa工作真空：機(jī)械泵10^-2torr控溫精度：?1℃爐內(nèi)溫均：?2℃升溫速率：Max:20

2020-03-20 1688/臺(tái)

20CrMnTi鋼球化退火爐

1200度高溫實(shí)驗(yàn)爐以電阻絲為加熱元件，采用雙層殼體結(jié)構(gòu)和智能化程序控溫系統(tǒng)，爐膛采用進(jìn)口氧化鋁多晶體纖維材料。保溫節(jié)能，體積小，能耗低，重量輕，外形美觀大方，結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)先進(jìn)合理。1200度高溫實(shí)驗(yàn)爐主要用途和適用范圍：高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫?zé)�結(jié)、金屬退火、新材料開發(fā)、農(nóng)業(yè)生產(chǎn)體系物質(zhì)灰化、

2020-03-20 1688/臺(tái)

1400度高溫真空電阻燒結(jié)爐

產(chǎn)品優(yōu)勢(shì):1.LED大屏幕液晶顯示，本機(jī)集成了真空泵，內(nèi)循環(huán)水冷卻系統(tǒng)，避免外接水源的繁鎖，使設(shè)備的外表面溫度更低，美觀大方，操作簡(jiǎn)潔。2.本款產(chǎn)品加熱系統(tǒng)，混氣系統(tǒng)，真空系統(tǒng)，內(nèi)循環(huán)水冷卻系統(tǒng)，監(jiān)測(cè)系統(tǒng)，都可通過(guò)控制按鈕一鍵操作。本機(jī)功能一體，滿足客戶絕大部分要求。3.專業(yè)的真

2020-03-20 50000/臺(tái)

真空氣淬爐 高真空氣淬爐

真空氣淬爐用途：VGQF1350-644高壓氣淬真空爐，主要用于高合金工具鋼、高速鋼、不銹鋼的高壓氣淬及高溫合金磁性材料等的真空退火，也可用于粉末冶金的真空燒結(jié)，不銹鋼及銅釬焊等。結(jié)構(gòu)：VGQF1350-644真空爐是由主機(jī)、真空系統(tǒng)、水冷系統(tǒng)、氣冷系統(tǒng)、氣動(dòng)系統(tǒng)、電控系統(tǒng)和爐外運(yùn)輸車

2020-01-16 1688/臺(tái)

單晶生長(zhǎng)爐 CVD系統(tǒng)真空管式

設(shè)備用途本設(shè)備是專為高等院校﹑科研院所的實(shí)驗(yàn)室及工礦企業(yè)在可控多種氣氛及真空狀態(tài)下對(duì)金屬，非金屬及其它化合物進(jìn)行真空燒結(jié)、氣氛保護(hù)燒結(jié)、真空鍍膜、氣氛還原燒結(jié)、CVD實(shí)驗(yàn)、真空退火﹑熔化﹑物質(zhì)成分測(cè)量分析而研制的專項(xiàng)使用理想設(shè)備。應(yīng)用領(lǐng)域半導(dǎo)體、納米材料、碳纖維、石墨烯等新材料、

2020-01-16 50000/臺(tái)

X光旋轉(zhuǎn)管真空除氣設(shè)備

VF1300-644型真空爐技術(shù)參數(shù)（金屬屏）（設(shè)計(jì)參考圖、僅供參考）一、設(shè)備用途本設(shè)備主要應(yīng)用于金屬材料高真空熱處理。主要應(yīng)用行業(yè)與工藝：3D打印金屬工件與合金材料的高真空熱處理；醫(yī)用記憶合金產(chǎn)品；醫(yī)用X射線管高真空除氣;金屬材料的真空釬焊。二、主要參數(shù)

2020-01-16 356000/臺(tái)

PECVD化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

PECVD化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)產(chǎn)品簡(jiǎn)介：此款設(shè)備配有Plasma實(shí)現(xiàn)等離子增強(qiáng)，滑軌式設(shè)計(jì)在操作時(shí)可將實(shí)驗(yàn)需要的恒定高溫直接推到樣品處，使樣品能得到一個(gè)快速的升溫速度，同樣也可將高溫的管式爐直接推離樣品處，使樣品直接暴露在室溫環(huán)境下，得到快速的降溫速率。并可選配氣氛微調(diào)裝置，可準(zhǔn)確的控制反應(yīng)腔體

2020-01-16 85600/臺(tái)

貨品、集熱管高溫真空除氣爐

VF1300-644型真空爐技術(shù)參數(shù)（金屬屏）一、設(shè)備用途本設(shè)備主要應(yīng)用于金屬材料高真空熱處理。主要應(yīng)用行業(yè)與工藝：3D打印金屬工件與合金材料的高真空熱處理；醫(yī)用記憶合金產(chǎn)品；醫(yī)用X射線管高真空除氣;金屬材料的真空釬焊。二、主要參數(shù)1、爐型結(jié)構(gòu)：臥式，單室，爐體爐門

2020-01-16 356000/臺(tái)

連桿淬火箱式爐 連桿淬火高

設(shè)備簡(jiǎn)介：1200度高溫實(shí)驗(yàn)爐以電阻絲為加熱元件，采用雙層殼體結(jié)構(gòu)和智能化程序控溫系統(tǒng)，爐膛采用進(jìn)口氧化鋁多晶體纖維材料。保溫節(jié)能，體積小，能耗低，重量輕，外形美觀大方，結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)先進(jìn)合理。1200度高溫實(shí)驗(yàn)爐主要用途和適用范圍：高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫?zé)�結(jié)、金屬退火、新材料開發(fā)、農(nóng)業(yè)生產(chǎn)體系

2020-01-15 1688/臺(tái)

真空氣氛燒結(jié)爐 氮?dú)獗Ｗo(hù)高

設(shè)備技術(shù)參數(shù):爐膛尺寸：300*200*200mm400*300*300mm500*400*400mm600*600*600mm1200*600*600mm較限溫度：1200工作溫度：1100控溫精度：±1度爐內(nèi)溫均：±5度升溫速率：Max

2020-01-15 1688/臺(tái)

直銷硬質(zhì)合金銑刀釬焊爐

設(shè)備用途:適用于電子陶瓷與高溫結(jié)構(gòu)陶瓷的燒結(jié)、玻璃的準(zhǔn)確退火與微晶化、晶體的準(zhǔn)確退火、陶瓷釉料制備、粉末冶金、釬焊、納米材料的燒結(jié)、金屬零件淬火及一切需快速升溫工藝要求的熱處理，應(yīng)用于電子元器件、新型材料及粉體材料的真空氣氛處理，材料在惰性氣氛環(huán)境下進(jìn)行燒結(jié)。本設(shè)備具有安全可靠、操作簡(jiǎn)單、控

2020-01-15 50000/臺(tái)

630不銹鋼固溶熱處理爐

一、設(shè)備基本原理及主要用途1.設(shè)備用途適用于電子陶瓷與高溫結(jié)構(gòu)陶瓷的燒結(jié)、玻璃的準(zhǔn)確退火與微晶化、晶體的準(zhǔn)確退火、陶瓷釉料制備、粉末冶金、納米材料的燒結(jié)、金屬零件淬火及一切需快速升溫工藝要求的熱處理，應(yīng)用于電子元器件、新型材料及粉體材料的真空氣氛處理，材料在惰性氣氛環(huán)境下進(jìn)行

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